鏡頭燒熱發(fā)現膜層

1892年：英國泰勒（H.D.Toylor的Cook，Triplet鏡頭設計師）發(fā)現，把燒過的望遠鏡物鏡表面經風化出現紫色，和新的透鏡比較，發(fā)現能通過更多的光線。受弱酸侵蝕的玻璃表現存在折射率低的薄膜，能降低玻璃表面的反射率。

這個透鏡燃燒的新發(fā)現，使人們知道了膜層作用，并產生鍍膜技術，以后，利用工人的弱酸化學作用，從實驗室產生表面的弱酸凝膠層，到了1930年左右，技術有了明顯進展。

1931年：德國卡爾·蔡司公司發(fā)表優(yōu)良的大孔徑鏡頭Sonnar F2.0，鏡頭的反射面很少，由*的3組6片透鏡構成，有待開發(fā)鍍膜技術。

1935年：德國卡爾·蔡司公司發(fā)明了防反射膜層處理技術，蔡避開的A.Smakula在真空中加熱蒸發(fā)低折射率氟化物薄膜，誕生了防反射薄膜處理方法。

1936處：美國加利福尼亞工業(yè)大學的J.D.Strong把玻璃置于真空中，加熱蒸發(fā)有增透效果的氟化鈣（CaF2），成功制成了人工防反射薄膜。

由于 上述原因，2個透鏡組合膠合透鏡可以分離，增加透鏡設計的自由度。

1938年：美國依斯曼，柯達公司在HECTA鏡頭上完成鍍膜工藝。

1939-1943年：卡爾·蔡司公司成功實現了2層和3層增膜系。

1945年：德國徠茲公司，在徠卡的標準鏡頭中首先使用鍍膜技術，從SUMMITAR50mmF2鏡頭開始（該鏡頭1939年推出），鏡片實施鍍膜。

1945年：在德國法蘭克·海德克公司發(fā)明羅萊Automat（4型）相機的75mm F3.5鏡頭中，卡爾·蔡司·耶拿Tessar、蔡司奧普托·Tessar及施耐特Xenar3款鏡頭成為羅萊zui早鍍膜鏡頭。

1946年：千代田光學精工（現在美能達公司）在半幅Spring照相機的Minolta Seml A鏡頭上首先使用品紅膜層。

美能達SEMI是日本zui早有鍍膜鏡頭的照相機（JCII的歷史認定照相機），以后各公司相繼積極引入鍍膜技術，在商品目錄記錄中“有鍍膜”，給人印象是“光亮清晰鏡頭”。

1964-1967年：在攝影器材以外的用途領域，例如測量儀器盤和電視攝影像機鏡頭等方面，我層鍍膜其特征是幾乎能全部消除玻璃表面的反射，這是活用后有實效的光學技術之一。

1964年：當年10月在東京舉行*上，室內比賽轉播需要更明亮畫面，富士寫真光機公司受NHK委托開發(fā)了電視用鏡頭的多層鍍膜技術，實現了鏡片的電子束鍍膜EBC（Electron Beam Coating）。

在真空鍍膜時，使用高溶點的抗熱式的蒸發(fā)物質，用電子槍溶融方法，完成由日本技術制成zui多達11層的多層膜系，`1971年12月發(fā)表的8mm照相機，富士卡single8E8000的EBC富士儂8-64mm F1.8鏡頭和1972年9月推出攝影用的35mm單反相機，富士卡ST801的可換鏡頭，是采用了EBC技術的富士儂鏡頭。

1970年：西德科隆博覽會上（photokina），各照相機公司開發(fā)的多層鍍膜技術相繼登場，采用此新技術的鏡頭有：旭光學工業(yè)的賓得用可換鏡頭、日本光學工業(yè)的尼康F用可換鏡頭、佳能的新產品F1用可換鏡頭等。

1971年：可以說是多層鍍膜的元年，（全面推出*年），各個照相機款式工廠對以往的可換鏡頭及新開發(fā)的可換鏡頭，各自采用多層鍍膜。多層鍍膜的*性已*，加工成本高也引起關注，但照相機鏡頭使用多層鍍膜已大勢所趨，研究考慮的是更優(yōu)良的多層鍍膜技術實用化。

1972年：西德卡爾·蔡司公司在科隆博覽會推出一系列引入多層鍍膜的蔡司鏡頭。在出售的鏡頭上使用“T*”標記，這就是的有紅色標記“T*”鏡頭。

不管是照相機制造廠，還是鏡頭專業(yè)廠，都力爭采用多層鍍膜技術。其結果增加了鏡頭設計的自由度，出現了由復雜的透鏡構成各種廣角鏡頭、變焦鏡頭等系列產品。

1994年起：各公司均引入多層鍍膜，重新評價如何提高像質。另外也積極引入非球面透鏡，超 過10組的很多片透鏡組成的高倍變焦鏡頭變得易于實現。

各公司的鏡頭，都是根據需要，區(qū)分使用單層或多層鍍膜，作為透鏡的處理，與初期的鏡頭是不同，使彩色攝影像質更佳，依靠高次元的鍍膜，設法見一到新的流，推進鏡頭發(fā)展，更上一層樓。